Loading...

´ëÇѱݼӡ¤Àç·áÇÐȸ

The Korean Institute of Metals and Materials

  >   ÇÐȸ¼Ò°³   >   »ó¼³À§¿øȸ   >   ÆíÁýÀ§¿øȸ

ÆíÁýÀ§¿øȸ

Electronic Materials Letters ÆíÁýÀ§¿øȸ
Á÷Ã¥ ¼º¸í/ ÀçÁ÷ó
Editor-in-Chief ½Åº´ÇÏ (KAIST)
Vice Editor-in-Chief
ÀåÈ£¿ø (¼­¿ï´ëÇб³)
ÆíÁýÀÌ»ç
±è¼ö¿µ (°í·Á´ëÇб³)
±èÇý°æ (¿µ³²´ëÇб³)
ÀÌÈ¿Á¾ (µ¿¾Æ´ëÇб³)
Editor
°­±â¹ü (KAIST)
±è»ó¹ü (¼­¿ï´ëÇб³)
³²½ÂÈÆ (¸íÁö´ëÇб³)
½ºÆ¼ºê¹Ú (KAIST)
Á¤¿ìö (KAIST)
È«±âÇÏ (Çѹç´ëÇб³)
Qi Chen (Beijing Institute of Technology)
Shuye Zhang (Harbin Institute of Technology)
ÆíÁýÀ§¿ø
±Ç¼º±¸ (±º»ê´ëÇб³)
±ÇÀåÇõ (°æÈñ´ëÇб³)
±è±â¼ö (¿ï»êÅ×Å©³ëÆÄÅ©)
±è»ç¶óÀº°æ (¼­¿ï°úÇбâ¼ú´ëÇб³)
±è»ó¼· (ÀÎÇÏ´ëÇб³)
±è»ó¿ì (¼º±Õ°ü´ëÇб³)
±è¿õ (°í·Á´ëÇб³)
±èÁ¾±Ô (POSTECH)
±èÁøÇõ (Àü³²´ëÇб³)
±èÇüÁØ (¿¬¼¼´ëÇб³)
³²±âÅ (¼­¿ï´ëÇб³)
³²È£¼® (±¹¹Î´ëÇб³)
·ùºÀ±â (ºÎ»ê´ëÇб³)
¹Ú¼º±Ô (Áß¾Ó´ëÇб³)
¹Ú¿µ¹è (¾Èµ¿´ëÇб³)
¹Ú¿øÀÏ (ÇѾç´ëÇб³)
¹ÚÁø¼º (ÇѾç´ëÇб³)
¹Úö¹Î (¿¬¼¼´ëÇб³)
¹èº´¼º (È£¼­´ëÇб³)
¹éÁ¤¹Î (¼º±Õ°ü´ëÇб³)
¾Èµ¿È¯ (±¹¹Î´ëÇб³)
¾ÈÁ¾Çö (¿¬¼¼´ëÇб³)
¿À½ÂÁÖ (°í·Á´ëÇб³ )
¿À¿ëÁØ (Çѹç´ëÇб³)
¿ÀÁöÈÆ (KAIST )
À¯¼¼ÈÆ (Çѱ¹»ý»ê±â¼ú¿¬±¸¿ø)
ÀÌ°ÇÀç (KAIST)
À̳»ÀÀ (¼º±Õ°ü´ëÇб³)
À̺´ÈÆ (POSTECH)
À̼±¿µ (ÇѾç´ëÇб³)
ÀÌ½Â¹Ì (Çѱ¹Ç¥ÁØ°úÇבּ¸¿ø)
À̽Âö (Çѱ¹°úÇбâ¼ú¿¬±¸¿ø)
ÀÌ¿øÁØ (¼¼Á¾´ëÇб³)
ÀÌÀå½Ä (POSTECH)
ÀÌÀç½Â (°í·Á´ëÇб³)
ÀÌÁ¾¿ø (Çѹç´ëÇб³)
ÀÌÁØÇõ (Çѱ¹¿øÀڷ¿¬±¸¿ø)
ÀÌÇѺ¸¶÷ (ÀÎõ´ëÇб³)
ÀÌÈñö (Çѱ¹°øÇдëÇб³)
ÀÓÇýÀÎ (¼÷¸í¿©´ë)
ÀåÆò¿ì (ûÁÖ´ëÇб³)
Àü¹ÎÇö (ÀÎÁ¦´ëÇб³)
Àü¼®¿ì (°í·Á´ëÇб³)
Á¤¿¬½Ä (KAIST)
Á¤¿î·æ (¿¬¼¼´ëÇб³)
Á¤Çö¼® (¼º±Õ°ü´ëÇб³)
Á¤Èñ¼ö (±¹¹æ°úÇבּ¸¼Ò)
Á¦±¸Ãâ (¾È¾ç´ëÇб³)
Á¶¼ºÁø (°æºÏ´ëÇб³)
Á¶¿µ·¡ (ºÎ»ê´ëÇб³)
ÃÖÀμ® (¼­¿ï´ëÇб³)
ÃÖâȯ (ÇѾç´ëÇб³)
È«¼ø±¸ (Ãæ³²´ëÇб³)
È«¿ëÅà (¼­¿ï´ëÇб³)