Loading...

´ëÇѱݼӡ¤Àç·áÇÐȸ

The Korean Institute of Metals and Materials

  >   ÇÐȸ¼Ò°³   >   ºÐ°úÀ§¿øȸ   >   ¼ÒÇÁÆ®¼ÒÀç ºÐ°úÀ§¿øȸ(¿¹ºñºÐ°ú)

¼ÒÇÁÆ®¼ÒÀç ºÐ°úÀ§¿øȸ(¿¹ºñºÐ°ú)

¼Ò°³±Û

ÃÖ±Ù Ç÷º¼­ºí ¿þ¾î·¯ºí, ±×¸®°í ½ºÆ®·¹Ã³ºí ±¤ÀüÀÚ¼ÒÀÚ, ¿¡³ÊÁö ¼ÒÀÚ, ¹ÙÀÌ¿À ¼ÒÀÚ ºÐ¾ß ¹ßÀü°ú ÇÔ²² ÇмúÀûÀÎ Ãø¸é »Ó¸¸ ¾Æ´Ï¶ó, »ê¾÷ÀûÀÎ Ãø¸é¿¡¼­µµ ¼ÒÇÁÆ®, ±×¸®°í ÀÌµé ¼ÒÇÁÆ®¼ÒÀ縦 ±â¹ÝÀ¸·Î ÇÑ ÇÏÀ̺긮µå¼ÒÀç¿¡ ´ëÇÑ ±â¼úÇõ½ÅÀÇ ¿ä±¸°¡ Áõ°¡µÇ°í ÀÖ½À´Ï´Ù. ÀÌ °°Àº Çй®Àû, »ê¾÷Àû °ü½ÉÀ» ¹Ý¿µÇÏ¿© ´ëÇѱݼӡ¤Àç·áÇÐȸ ³» ¼ÒÇÁÆ®¼ÒÀç ºÐ°ú¸¦ °³¼³ ¿î¿µÇÕ´Ï´Ù. À̸¦ ÅëÇØ ±â¾÷°ú ´ëÇÐ, ±×¸®°í ±¹°¡Ã⿬ ¿¬±¸¼Ò µî¿¡¼­ ¿ä±¸ÇÏ´Â ÇмúÀû ±³·ù, °ü·Ã ºÐ¾ß Àη°£ÀÇ Á¤º¸ °øÀ¯ ¹× ³×Æ®¿öÅ·, ±×¸®°í ´ëÁ¤ºÎ È°µ¿ µî ¼ÒÇÁÆ®¼ÒÀçºÐ¾ß¿¡ ´ëÇÑ ´Ù¾çÇÑ ¿ªÇÒÀ» ¼öÇàÇÏ°íÀÚ ÇÕ´Ï´Ù.

¼ÒÇÁÆ®¼ÒÀç ºÐ°ú¿¡¼­´Â °íºÐÀÚ ¹× À¯±â ¼ÒÇÁÆ®¼ÒÀç¿Í ÀÌµé ¼ÒÇÁÆ®¼ÒÀ縦 ±â¹ÝÀ¸·Î ÇÏ´Â ´Ù¾çÇÑ ÇÏÀ̺긮µå¼ÒÀç¿¡ °ü·ÃµÈ ³»¿ëÀ» ±¤¹üÀ§ÇÏ°Ô ´Ù·ê ¿¹Á¤ÀÔ´Ï´Ù. ±¸Ã¼ÀûÀ¸·Î ¼ÒÇÁÆ®¼ÒÀç ÇÕ¼º ¹× °øÁ¤, ¼ÒÇÁÆ®¼ÒÀçÀÇ ¹°¸® È­ÇÐÀû Ư¼º ºÐ¼® ¹× Æò°¡, ¼ÒÇÁÆ®¼ÒÀç ±â¹Ý ±¤ÀüÀÚ, ¿¡³ÊÁö, ¹ÙÀÌ¿À ¼ÒÀÚ±â¼ú, ±×¸®°í ÀÌµé ¼ÒÇÁÆ®¼ÒÀç ¹× ¼ÒÀÚÀÇ »ê¾÷Àû ÀÀ¿ë µî ¼ÒÇÁÆ®¼ÒÀ縦 Áß½ÉÀ¸·Î ±¤¹üÀ§ÇÑ ÁÖÁ¦¸¦ ¼Ò°³ÇÏ°í °íÂûÇØ °¥ ¿¹Á¤ÀÔ´Ï´Ù.

´õºÒ¾î ´ëÇѱݼӡ¤Àç·áÇÐȸ ³» ´Ù¾çÇÑ Å¸ ºÐ°ú¿ÍÀÇ Çù·ÂÀ» ¸ð»öÇÏ°í, À̸¦ ÅëÇØ »õ·Î¿î Çй®Àû »ê¾÷Àû ½Ã³ÊÁö¸¦ µµÃâÇÏ°íÀÚ ÇÕ´Ï´Ù. ¼ÒÇÁÆ®¼ÒÀ縦 Àü¹®ÀûÀ¸·Î ´Ù·ç°í ÀÖ´Â ±âÁ¸ ÇÐȸ¿ÍÀÇ Àû±ØÀûÀÎ ±³·ù¸¦ ÅëÇØ ÀúÈñ ´ëÇѱݼӡ¤Àç·áÇÐȸÀÇ ¿ªÇÒ°ú À§»óÀ» ´õ¿í ³ôÀÌ°íÀÚ ÇÕ´Ï´Ù. À̸¦ ÅëÇØ ±Ã±ØÀûÀ¸·Î ¼ÒÇÁÆ®¼ÒÀç ºÐ¾ß¿¡¼­ ´ëÇѹα¹ÀÇ »õ·Î¿î ¼ºÀå ¿øµ¿·ÂÀ» ã¾Æ°¡°íÀÚ ÇÕ´Ï´Ù.

ÀÓ¿ø

Á÷Ã¥ ¼º¸í/ ÀçÁ÷ó
À§¿øÀå ¹Úö¹Î (¿¬¼¼´ëÇб³)
 Ãѹ«°£»ç
°­¼®ÁÖ (UNIST)
±è¼ö¿µ (°í·Á´ëÇб³)
±è¿¬¼ö (POSTECH)
¼±Á¤À± (¼­¿ï´ëÇб³)
½É¿ì¿µ (¿¬¼¼´ëÇб³)
Á¤¼ºÁØ (POSTECH)
 °£»çÀ§¿ø
°­±âÈÆ (¼­¿ï´ëÇб³)
°­¼ºÈÆ (KAIST)
°­½Â±Õ (¼­¿ï´ëÇб³)
°­ÁÖÈÆ (¼º±Õ°ü´ëÇб³)
°­Èñ¹Î (°í·Á´ëÇб³)
°íÇöÇù (¿ï»ê°úÇбâ¼ú¿ø)
°íÈïÁ¶ (GIST)
±Ç¹Î»ó (¼­¿ï´ëÇб³)
±èµ¿È¸ (°í·Á´ëÇб³)
±è¹Ì¼Ò (¼º±Õ°ü´ëÇб³)
±è»ó¿í (KAIST)
±è¿µ±Ù (°í·Á´ëÇб³)
±è¿µÀº (¼­¿ï´ëÇб³)
±è¿ëÁÖ (°í·Á´ëÇб³)
±èÀ±¼® (¼º±Õ°ü´ëÇб³)
±èÁöÀ± (UNIST)
±èÈ£¹ü (GIST)
³²´ëÇö (°í·Á´ëÇб³)
¹Ú¼ºÁØ (¼­¿ï´ëÇб³)
¹ÚÀå¿õ (¿¬¼¼´ëÇб³)
¹ÚÁÖÇõ (¼­¿ï´ëÇб³)
¹ÚÅÂÁØ (±¹¹Î´ëÇб³)
¼­Á¤¸ñ (¿¬¼¼´ëÇб³)
½ºÆ¼ºê¹Ú (KAIST)
¿¬ÇÑ¿ï (GIST)
¿À½Â¼ö (POSTECH)
¿À½ÂÁÖ (°í·Á´ëÇб³)
À±¸íÇÑ (GIST)
ÀÌ»óÇÑ (GIST)
ÀÌÀç¿ø (°­¿ø´ëÇб³)
ÀÌÁعΠ(POSTECH)
ÀÌÁö¼® (UNIST)
ÀÌÅ¿ì (¼­¿ï´ëÇб³)
ÀÌÇöÁ¤ (KIST)
ÀåÀç¹ü (KAIST)
Àü¼®¿ì (°í·Á´ëÇб³)
Á¤°Ç¿µ (GIST)
Á¤¹üÁø (ºÎ»ê´ëÇб³)
ÃÖ¹®±â (UNIST)
ÇϹÎÁ¤ (GIST)
Ȳ¼®¿ø (°í·Á´ëÇб³)