Loading...

´ëÇѱݼӡ¤Àç·áÇÐȸ

The Korean Institute of Metals and Materials

  >   ÇÐȸ¼Ò°³   >   ºÐ°úÀ§¿øȸ   >   ¼ö¼ÒÀç·á ºÐ°úÀ§¿øȸ

¼ö¼ÒÀç·á ºÐ°úÀ§¿øȸ

¼Ò°³±Û

¼¼°è °¢±¹¿¡¼­´Â ±âÈÄ ¿Â³­È­ÀÇ ÁÖ¹üÀÎ ÀÌ»êȭź¼Ò(CO2) Àú°¨À» À§ÇÑ Åº¼ÒÁ߸³ Á¤Ã¥(carbon neutrality)À» ¼±¾ðÇÏ°í, ź¼ÒÁ߸³»çȸ ½ÇÇöÀ» À§ÇØ Ä£È¯°æ ¼ö¼Ò ¿¡³ÊÁöÀÇ È®»ê ¹× ¼ö¼Ò ¿¬°ü »ê¾÷ÀÇ ¹ßÀü¿¡ ±¹°¡ÀûÀÎ ¿ª·®À» °áÁýÇÏ°í ÀÖ½À´Ï´Ù. ¼ö¼Ò ¿¡³ÊÁö¸¦ ±¤¹üÀ§ÇÏ°Ô È°¿ëÇϱâ À§Çؼ­´Â ¾ÈÀüÇÏ°Ô ¼ö¼Ò¸¦ ÀúÀåÇÏ°í ¿î¼ÛÇÒ ¼ö ÀÖ´Â ÀÎÇÁ¶ó¸¦ µÞ¹ÞħÇÏ´Â ¿øõ±â¼ú °³¹ßÀÌ ÇʼöÀûÀ̸ç, ¼±Áø±¹À» Áß½ÉÀ¸·Î ¿øõ±â¼ú È®º¸¸¦ À§ÇÑ ¿¬±¸°¡ ÁýÁßÀûÀ¸·Î ÁøÇà ÁßÀÔ´Ï´Ù. ƯÈ÷ ģȯ°æ ¼ö¼Ò ¿¡³ÊÁöÀÇ Á߿伺 ±×¸®°í ÇâÈÄ µµ·¡ÇÒ ¼ö¼Ò »ê¾÷ÀÇ ¼±µµ¸¦ À§Çؼ­´Â °ü·Ã ºÐ¾ß¿¡ Àû¿ë °¡´ÉÇÑ ¿ì¼öÇÑ Æ¯¼ºÀÇ »õ·Î¿î Àç·áÀÇ °³¹ßÀÌ ÇʼöÀûÀÌ´Ù.

º» ºÐ°ú¿¡¼­´Â ¼ö¼Ò ¿¡³ÊÁö °ü·Ã ¿¬±¸ÀÚ, ƯÈ÷ ¼ö¼Ò ÀúÀå ¼ÒÀç/½Ã½ºÅÛ, ¿¬·áÀüÁö ¹× ¼öÀüÇØ ¼ÒÀç, ¼ö¼Ò ºÐ¸®¸· ¼ÒÀç ±×¸®°í ¾Ð·Â¿ë±â, ¹è°ü ¹× ¿ëÁ¢ÀçÀÇ ¼ö¼Ò Ã뼺 ¿¬±¸¸¦ ÁøÇàÇÏ°í ÀÖ´Â ¿¬±¸ÀÚµéÀ» Áß½ÉÀ¸·Î Á¤±âÀûÀÎ ¸ðÀÓÀ» °³ÃÖÇÏ¿© ÃֽŠ¿¬±¸°á°úµéÀ» °øÀ¯ÇÏ°í ½Éµµ ÀÖ´Â Åä·Ð ÅëÇØ Åº¼ÒÁ߸³»çȸ ½ÇÇö¿¡ ÀÏÁ¶ÇÏ°íÀÚ ÇÕ´Ï´Ù. ¶ÇÇÑ ±âÃÊ¿¬±¸»Ó¸¸ ¾Æ´Ï¶ó »ê¾÷ü¿¡¼­ ÇÊ¿ä·Î ÇÏ´Â ¿ä¼Ò±â¼ú °³¹ßÀ» ÅëÇÑ »ó¿ëÈ­ ¿¬±¸¸¦ ÃßÁøÇϱâ À§ÇØ »ê/ÇÐ/¿¬ Áß½ÉÀÇ '¼ö¼Ò¿¡³ÊÁöÀç·á À¶ÇÕ¿¬±¸'¸¦ ÁÖµµÇÏ°íÀÚ ÇÕ´Ï´Ù.

ÀÓ¿ø

Á÷Ã¥ ¼º¸í/ ÀçÁ÷ó
À§¿øÀå ½ÉÀçÇõ (Çѱ¹°úÇбâ¼ú¿¬±¸¿ø)
 Ãѹ«°£»ç
±è¿µ¹Î (Çѱ¹Àç·á¿¬±¸¿ø)
¹ÚÇü±â (Çѱ¹»ý»ê±â¼ú¿¬±¸¿ø)
õµ¿¿ø (POSTECH)
 °£»çÀ§¿ø
°­³²Çö (ºÎ»ê´ëÇб³)
°­¹Î¿ì (Çö´ëÀÚµ¿Â÷)
°í¿ø¼® (ÀÎÇÏ´ëÇб³)
°ûžç (·ç¾È)
±è¼¼È£ (°í·Á´ëÇб³)
±èÁø¿ì (Çѱ¹°úÇбâ¼ú¿¬±¸¿ø)
±èÇýÁø (Çö´ëÁ¦Ã¶)
³ª¿µ»ó (Çѱ¹Àç·á¿¬±¸¿ø)
³ªÅ¿í (Çѱ¹»ý»ê±â¼ú¿¬±¸¿ø)
·ùÈ£Áø (KAIST)
¸¶¿µÈ­ (µÎ»ê¿¡³Êºô¸®Æ¼)
¹ÚÀ翵 (Çѱ¹Ç¥ÁØ°úÇבּ¸¿ø)
¹ÚÁöÇý (Çö´ëÀÚµ¿Â÷)
¹Úâ¼ö (Çѱ¹»ý»ê±â¼ú¿¬±¸¿ø)
¼­µ¿¿ì (POSTECH)
¼­º´Âù (Çѱ¹Àç·á¿¬±¸¿ø)
¼­ÁøÀ¯ (Çѱ¹°úÇбâ¼ú¿¬±¸¿ø)
¼Õ¼®¼ö (°í·Á´ëÇб³)
½Å»ó¿ë (¿ï»ê´ëÇб³)
À̱ÔÇü (¿¬¼¼´ëÇб³)
À̵¿Çö (Ãæ³²´ëÇб³)
À̸í±Ô (¼­¿ï´ëÇб³)
ÀÌ½Â°Ç (Çѱ¹Àç·á¿¬±¸¿ø)
ÀÌ¿µ¼ö (Çѱ¹°úÇбâ¼ú¿¬±¸¿ø)
Á¤º´ÀÎ (POSCO)
Á¤¿¬½Â (POSCO)
Á¤Àç¼® (µÎ»ê¿¡³Êºô¸®Æ¼)
Á¶Àº¼± (KAIST)
Áö¼ºÈ­ (Æß½ºÅÍ)
ÃÖµ¿Àç (Çö´ëÀÚµ¿Â÷)
ÃÖ¿ø¼® (SKÀ̳뺣À̼Ç)
ÇÏÅÂÁØ (Çѱ¹»ý»ê±â¼ú¿¬±¸¿ø)
ÇÑÁ¤È£ (ÇѾç´ëÇб³)
ÇÔÁ¾¿À (Çѱ¹È­ÇÐÀ¶ÇÕ½ÃÇ迬±¸¿ø)
Ȳº´Ã¶ (¼­¿ï°úÇбâ¼ú´ëÇб³)
 ÀÚ¹®À§¿ø
±è¼ºÁØ (POSTECH)
±èÇü¼· (POSTECH)
ÀÌ¿µ±¹ (¿¬¼¼´ëÇб³)
Á¤¿ì»ó (Çѱ¹°úÇбâ¼ú¿¬±¸¿ø)