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ͺ±èµ¿ÈÆ È¸¿ø(1990³â)-1000¸¸¿ø, ±è»óÁÖ È¸¿ø(1993³â, 2001³â)-3000¸¸¿ø, È«Á¾ÈÖ È¸¿ø(1995³â)-1000¸¸¿ø,
À±´ö¿ë ȸ¿ø(1995³â)-400¸¸¿ø, °­Àϱ¸ ȸ¿ø(1997³â)-1000¸¸¿ø, ¹Ú¿ë¼ö ȸ¿ø(1997³â)-200¸¸¿ø, ͺ¹®ÀÎÇü ȸ¿ø(1999³â)-200¸¸¿ø, ÁÖâ±Õ ȸ¿ø(1999³â)-2000¸¸¿ø, ¹ÚÂù°æ ȸ¿ø(2002³â)-100¸¸¿ø, ±è³«ÁØ È¸¿ø(2003³â)-500¸¸¿ø, ½Å±¤¼± ȸ¿ø(2004³â)-100¸¸¿ø, ÀÌÀ翵 ȸ¿ø(2005³â)-1000¸¸¿ø, ¹ÚÀ͹Πȸ¿ø(2005³â)-100¸¸¿ø, À̼ºÇРȸ¿ø(2006³â)-300¸¸¿ø, À¯º´µ· ȸ¿ø(2006³â)-100¸¸¿ø, Ȳ¼±±Ù ȸ¿ø(2007³â)-700¸¸¿ø, ÀÌ°æ¼· ȸ¿ø(2007³â)-1000¸¸¿ø, Á¶°æ¸ñ ȸ¿ø(2008³â)-100¸¸¿ø, ÀÌÁ¾¼ö ȸ¿ø(2009³â)-100¸¸¿ø, ±Çµ¿ÀÏ È¸¿ø(2010³â)-100¸¸¿ø, ÀÓâÈñ ȸ¿ø(2011³â)-300¸¸¿ø, ±è¿µÈ£ ȸ¿ø(2011³â)-400¸¸¿ø, ±Ýµ¿È­ ȸ¿ø(2012³â)-300¸¸¿ø, À̵¿³ç ȸ¿ø(2013³â)-100¸¸¿ø, ¢ß¾Ë¾Øºñ(2003~13³â)-2200¸¸¿ø
´ëÇѱݼӷÀç·áÇÐȸ¿Í Çѱ¹¿©¼º°úÇбâ¼úÀÎÁö¿ø¼¾ÅÍ¿Í °øµ¿À¸·Î ¼ö¿©ÇÏ´Â »óÀ¸·Î 2012³âºÎÅÍ Á¦Á¤µÇ¾î ÀþÀº ¿©¼º ¿¬±¸ÀÚ Áß¿¡ ¿ì¼öÇÑ ³í¹®À» ¹ßÇ¥ÇÑ °æ¿ì ¹× Çмú´ëȸ Æ÷½ºÅÍ ¹ßÇ¥ÀÚ Áß¿¡ ¿ì¼öÇÑ ³í¹®À» ¹ßÇ¥ÇÑ ¿©¼º ȸ¿ø¿¡°Ô ¼ö¿©ÇÏ´Â »óÀÌ´Ù.
Ãá°è-Ãá°èÇмú´ëȸ ¹ßÇ¥ Áß ¿ì¼öÆ÷½ºÅ͸¦ ¹ßÇ¥ÇÑ ¿©¼º¿¡°Ô ¼ö»óÇÑ´Ù. Ãß°è-Àü³âµµ Metals and Materials International¿¡ °ÔÀçµÈ ³í¹® Áß ¿ì¼öÇÑ ³í¹®À» °ÔÀçÇÑ ¿©¼º ȸ¿ø¿¡°Ô ¼ö»ó ÇÑ´Ù.

¼ö»ó½Ã±â ¹× °Ç¼ö: Ãá°èÇмú´ëȸ -1°Ç, Ãß°èÇмú´ëȸ-2°Ç ÃÑ ³â 3°Ç
ºÎ»ó : »ó±Ý 50¸¸¿ø
 
Á¦ 1ȸ 2012³â Ãá°è Á¤Áö¿ø(¼­¿ï´ëÇб³) - ³ª³ë¾ÐÀÔ½ÃÇèÀ» ÀÌ¿ëÇÑ ±Ý¼Ó ¹Ú¸·ÀÇ ±¹ºÎÀû ÀÜ·ùÀÀ·Â Æò°¡
2012³â Ãß°è ÀÌÀº°æ(°æ»ó´ëÇб³) - Effect of Ti Addition on Tensile Properties of Cu-Ni-Si Alloys
ÃÖÁö¾Ö(°í·Á´ëÇб³)- Microstructural and Electrochemical Properties of Ti-doped Al2O2 coated LicoO2 Films
Á¦ 2ȸ 2013³â Ãá°è À̸íÁÖ(¾Èµ¿´ëÇб³) - Àú¿Â ºÐ»ç °øÁ¤À¸·Î Á¦Á¶µÈ Ta ÄÚÆÃÃþÀÇ Æ¯¼º¿¡ ¹ÌÄ¡´Â ¼Û±Þ °¡½ºÀÇ ¿µÇâ
2013³â Ãß°è ±èÀº¿µ(¼øõ´ëÇб³) - Effect of Initial Microstructure on Strain-Stress Partitioning and Void Formation in DP980 Steel During Uniaxial Tension
±¸Çý°æ(¼¼Á¾´ëÇб³) - Water-Splitting Performance of Cu-In-S Compounds/1D-Na2Ti6O13/FTO Photoelectrodes