Loading...

´ëÇѱݼӡ¤Àç·áÇÐȸ

The Korean Institute of Metals and Materials

  >   ¾Ë¸²±¤Àå   >   °øÁö»çÇ×

°øÁö»çÇ×

Á¦  ¸ñ Àü°ø¼­Àû ¹ø¿ª °ø°í (Ã¥ÀÚ¸í : FUNDAMENTALS OF ELECTROCHEMICAL DEPOSITION) (¸¶°¨)
ÀÛ¼ºÀÚ À¯½ÃÇö »ç¿ø µî·ÏÀÏ 2016-09-07 À̸ÞÀÏ mmi@kim.or.kr Á¶È¸¼ö 3134

´ç ÇÐȸ¿¡¼­´Â ¿Ü±¹ Àü°ø¼­ÀûÀÇ ÇÑ±Û ¹ø¿ª»ç¾÷(¿µ¹®->ÇѱÛ)À» ÁøÇàÇÏ°í ÀÖ½À´Ï´Ù.

ÀÌ¿¡, ¾Æ·¡¿Í °°Àº Àü°ø¼­Àû ¹ø¿ªÀ» ÁøÇàÇÒ ÇÐȸ ȸ¿øºÐÀ» ¸ð½Ã°íÀÚ ÇÏ¿À´Ï

°ü½É ÀÖÀ¸½Å ȸ¿ø²²¼­´Â ÇÐȸ »ç¹«±¹À¸·Î ¿¬¶ô ÁÖ½Ã¸é °¨»çÇÏ°Ú½À´Ï´Ù.

 

------------------------------------------------------------------------------

¡· ¼­Àû¸í: FUNDAMENTALS OF ELECTROCHEMICAL DEPOSITION

¡· ¹ø¿ªºÐ·®: INDEX Æ÷ÇÔ ÃÑ 373ÂÊ

¡· ¹ø¿ªºñ: 5¹é¸¸¿ø

¡· ¿¬¶ôó: 02-557-1071(´ã´ç: À¯½ÃÇö)




*ÇöÀç Ãʹú ¹ø¿ª(±¸±Û ¹ø¿ª±â)ÀÌ ¿Ï·áµÈ »óÅÂÀÌ¸ç ¹ø¿ª ÆíÀǸ¦ À§ÇØ

Ã¥ÀÚ¿Í ÇÔ²² PDF ÆÄÀϵµ Á¦°øÇÔ.



 
÷ºÎÆÄÀÏ